真空電弧爐
 真空甩帶機
真空甩絲機
離心澆鑄機
 雙功爐
 真空退火爐
 單晶硅加熱系統
 激光鍍膜機
 激光分子束外延系統
 
 
 
 
 
 
 
   
單晶硅基片加熱系統
 

       單晶硅基片加熱器是中國科學院物理研究所的專利產品(專利號:ZL95224595.7)。它選用特定摻雜的單晶硅材料,經特殊加工而成。該加熱器具有使用溫度范圍大,溫度起伏小,使用方便等特點,用于在制備鐵電、介電、超導、巨磁阻等各種固體薄膜時對基片加熱。由于硅的化學性質十分穩定,所以它也能在氧和其它氣體環境中工作。

本公司可以提供以下3種產品:1.單晶硅基片加熱板; 2.單晶硅基片加熱器 (包括加熱板、連接板和銀電極); 3.加熱系統(包括單晶硅加熱器和測溫、控溫裝置)。

 
主要技術指標:
 
一.單晶硅基片加熱板
   

1. 使用溫度范圍:室溫–960oC

2. 使用合適的溫控儀,溫度起伏:±2oC;

3. 可以制備單面、雙面各種固體薄膜;

4. 備有25×55×2, 35×75×2; 45×10×2mm3等多種規格供選用,制備樣品的最大尺寸為30×30mm2.

5. 適于在氧和其它氣體環境中工作。

       

二.單晶硅基片加熱器

1.它由一片加熱板、兩對連接板和二個銀電極組成;

2.由于采用軟連接,使單晶硅加熱板長時間使用不易損壞。

   

三. 單晶硅基片加熱系統

1.它由單晶硅基片加熱器和測溫、控溫裝置組成。 其中測溫有熱電偶測溫和紅外測溫兩種方式;控溫有電流控溫和熱電偶控溫兩種方式??販夭捎脷W陸818控溫表, 精度高,工作穩定,既可手動亦可程序自動控溫;

2.溫度范圍:室溫―960oC;

3.溫度起伏:±2oC

   
聯系人:???? 孟  磊    曹 爽??        電話 :010-82648036/9456       Mail: 13683272657@163.com?
太子彩票平台注册